電鍍銅及電弧披覆CrAlSiN鍍膜對ADI耐蝕性之影響

摘　　要

本研究採用沃斯回火延性鑄鐵ADI(Austempered ductile iron)為基材，先以電鍍銅當作中介層，再利用陰極電弧沉積(Cathodic arc deposition, CAD)方法於表面披覆CrAlSiN陶瓷硬膜，並且分別披覆單層電鍍銅及CAD-CrAlSiN膜層作為比較組，然後進行極化試驗、鹽霧試驗及浸泡試驗，以比較兩種表面處理對ADI微結構及耐候腐蝕性之影響。

實驗結果顯示，ADI經過電鍍銅及CAD-CrAlSiN鍍膜並不會劣化ADI優異的微觀組織。以電鍍銅作為中介層可改善CAD-CrAlSiN鍍膜附著性。經過極化試驗、鹽霧試驗及浸泡試驗後發現單一電鍍銅及CAD-CrAlSiN鍍膜對ADI耐腐蝕性之影響不明顯，但結合兩種表面處理可明顯改善ADI耐鹽害腐蝕之效用。
關鍵字：沃斯回火延性鑄鐵、電鍍銅、CrAlSiN鍍膜、耐蝕性